Couverture de Nouvelle Technologie Pour Depot Des Couches Minces
Titre du livre:

Nouvelle Technologie Pour Depot Des Couches Minces

Rendement de pulvérisation cathodique

Presses Académiques Francophones (20-10-2012 )

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ISBN-13:

978-3-8381-7397-9

ISBN-10:
383817397X
EAN:
9783838173979
Langue du livre:
Français
texte du rabat:
Le présent travail est consacré à la simulation du rendement de pulvérisation des atomes de cuivre et d’argent dans un plasma d’argon durant le dépôt de couche minces en élaborant un model numérique de la simulation par la méthode de Monte Carlo .La procédure de calcul prend en considération la marche aléatoire des ions d’argon et l’influence des paramètres physiques du faisceau d’ions ainsi que les caractéristique de la matière cible.Le rendement de pulvérisation cathodique dépend fortement des masses et des numéros atomiques des ions incidents et d’atome cible, de l’énergie et de l’angle d’incidence de ces ions, du plan cristallographique des atomes de la cathode, la température de ce dernier, la pression du plasma et il ne dépend pas de la charge.Durant notre étude on a développé un code laboratoire sous-Matlab qui permet de calculer le rendement de pulvérisation et le taux de dépôt pour deux incidences : normal et oblique en utilisant le tableau expérimental pour la quelle le coefficient de pulvérisation existe.Nos résultats sont comparés à ceux de la littérature, et ils sont en bon accord.
Maison d'édition:
Presses Académiques Francophones
Site Web:
https://www.presses-academiques.com
de (auteur) :
Abdelfatah Nasri
Numéro de pages:
176
Publié le:
20-10-2012
Stock:
Disponible
Catégorie:
Autres
Prix:
59.00 €
Mots-clés:
Plasma, Ions, Rendement de pulvérisation cathodique, angle d’incidence, énérgie d’incidence, cible .

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