射頻磁控濺鍍成長氧化鎂薄膜及其應用於閘極介電層特性研究的封面
书籍主题:

射頻磁控濺鍍成長氧化鎂薄膜及其應用於閘極介電層特性研究

金琅学术出版社 (2015-07-16 )

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ISBN-13:

978-3-639-73939-8

ISBN-10:
3639739396
EAN:
9783639739398
书籍语言:
作品简介:
本研究利用射頻磁控濺鍍法成長氧化鎂(MgO)薄膜於矽(Si)基板上。並由X 光光電子能譜儀(X-ray photoelectron spectroscopy)、掃描式電子顯微鏡(Scanning electron microscope)、二次離子質譜儀(Secondary ion mass spectrometer)和橢圓儀(Ellipsometer)等儀器對MgO薄膜進行結構及光學特性量測,而半導體特性分析儀則對以MgO當作閘極氧化層的不同功函數閘極電極與不同摻雜濃度Si基板之金屬-氧化物-半導體(Metal-oxide-semiconductor,簡稱MOS)元件進行電特性的量測。由實驗結果可知,在光學特性方面,MgO薄膜與Si基板之間存在界面缺陷層。在電特性方面,利用MOS元件的變溫電流-電壓(Current-voltage)特性曲線,研究載子傳輸的相關機制,藉此來探討MgO薄膜內部的載子捕捉/釋放與相關缺陷能階的位置。再由變頻的電容-電壓(Capacitance-voltage)特性曲線量測MgO薄膜的相對介電常數,最後與載子傳輸機制所計算的結果互相比較。
出版社 :
金琅学术出版社
网址:
https://www.goldenlight-publishing.com
由(作者):
侯焱 曹
页码 :
124
发表日期:
2015-07-16
现货:
备有现货
类别:
电学,磁学,光学
价格:
49.90 €
关键词:
介電材料, 缺陷, 二次離子質譜儀, 電流傳導機制, 相對介電常數

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